EN
AR
BG
CS
DA
NL
FI
FR
DE
EL
IT
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
IW
ID
LT
SR
SL
UK
VI
ET
HU
TH
TR
FA
AF
MS
GA
IS
HY
AZ
KA
Inleiding: Die dubbel-doelwit magnetron-sputteringsbedekkingsinstrument is ’n laboratoriumspesifieke bedekkingsinstrument met twee doelwitposisies wat deur ons maatskappy ontwikkel is. Die toestel is toegerus met ’n GVK-kragvoorsiening en ’n radiofrekwensie-kragvoorsiening. In vergelyking met gewone plasma-sputtering het magnetron-sputtering die voordele van hoë energie en hoë spoed, ’n hoë bedekkingskoers en is ’n tipiese hoëspoed-laagtemperatuur-sputtering. Die magnetron-doelwit is toegerus met ’n watergekoelde tussenlaag. Die waterkoeler kan effektief die hitte wegvoer en hitte-ophoping op die doelwitoppervlak voorkom, sodat die magnetron-bedekking vir ’n lang tyd stabiel kan werk. Die monsterstadium van hierdie model gebruik ’n heen-en-weerontwerp, met ’n magnetiese koppelingstang aan die linkerkant wat die monsterstadium na links en regs kan skuif. Die hele toestel word deur ’n aanraakskerm beheer, met ’n ingeboude een-knopsbedekkingsprogram wat eenvoudig en maklik om mee te werk is, en dit is ’n ideale toestel vir laboratoriumvoorbereiding van dun films.
Toepassing: Dit kan gebruik word om enkel- of veelvlak-ferro-elektriese dunfilms, geleidende films, legeringsfilms, halfgeleierfilms, keramiese films, dielektriese films, optiese films, ens. voor te berei.
