Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.
EN
Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.
Kry Prys

Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.

Tuisblad
Oor Ons
MH Uitrusting
Oplossing
Oseagebruikers
Video
Kontak Ons
Tuis> PR-verwijdering RTP USC
  • Skoon Halvoute Wafel na Etsering ICP Eksperimentele Plasma Verwydering van Fotoresist Masjien
  • Skoon Halvoute Wafel na Etsering ICP Eksperimentele Plasma Verwydering van Fotoresist Masjien
  • Skoon Halvoute Wafel na Etsering ICP Eksperimentele Plasma Verwydering van Fotoresist Masjien
  • Skoon Halvoute Wafel na Etsering ICP Eksperimentele Plasma Verwydering van Fotoresist Masjien
  • Skoon Halvoute Wafel na Etsering ICP Eksperimentele Plasma Verwydering van Fotoresist Masjien
  • Skoon Halvoute Wafel na Etsering ICP Eksperimentele Plasma Verwydering van Fotoresist Masjien
  • Skoon Halvoute Wafel na Etsering ICP Eksperimentele Plasma Verwydering van Fotoresist Masjien
  • Skoon Halvoute Wafel na Etsering ICP Eksperimentele Plasma Verwydering van Fotoresist Masjien
  • Skoon Halvoute Wafel na Etsering ICP Eksperimentele Plasma Verwydering van Fotoresist Masjien
  • Skoon Halvoute Wafel na Etsering ICP Eksperimentele Plasma Verwydering van Fotoresist Masjien
  • Skoon Halvoute Wafel na Etsering ICP Eksperimentele Plasma Verwydering van Fotoresist Masjien
  • Skoon Halvoute Wafel na Etsering ICP Eksperimentele Plasma Verwydering van Fotoresist Masjien

Skoon Halvoute Wafel na Etsering ICP Eksperimentele Plasma Verwydering van Fotoresist Masjien

Kry 'n Gratis Kwotasie
Produkbeskrywing

ICP Eksperimentele Plasma Fotoresist Verwyderingsmasjien

Polimerverwydering, silikonoksid of silikoonkarbied etensie, oppervlakskoonmaak na etensie
ASHING Polymer verwydering DESCUM Droë verwydering van harde maskerlaag Fotoresistensieverwydering na ionimplantasie Verwydering van optiese weerstand tussen media Fotoresistensieverwydering in BAW/SAW-proses Droë skoonmaak van anti-reflektiewe grafiekfilm laag Silikonoksida of silikonnitrid etshing Oppervlakresiduverwydering Oppervlakskoonmaak na etshing Silikoonkarbid etshing
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine factory
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine details
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine manufacture
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine factory
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine factory
Spesifikasie
PLASMA bron
RF+BIAS
Krag
1000W
1000W
600W
600W
Toepaslike Wysig
4-8 duim
Enkele verwerkingslystelling
een
Voorkoms afmetings
1140mm x 1050mm x 1620mm
Stelselbeheer
Industriële Beheerstelsel
Automatiseringnivo
Handmatig
FABRIEK
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine manufacture
Verpaking & Levering
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Bedryfsprofiel
16 jaar ervaring in toerusting uitvoer! Ons kan u 'n een-stap Halwegeleier Vroeë Fase Prosesse en Toerusting-oplossing verskaf!
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine details
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine details
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine factory

Meer Produkte

Navraag

Kopiereg © Guangzhou Minder-Hightech Co., Ltd. Alle regte voorbehou.

Privaatheidsbeleid

Navraag Email Whatsapp WeChat
Boonste
×

KONTAK ONS