Dit bestaan uit 'n ioonkragvoorsiening, vakkuumsisteem, gasvulstelsel, outomatiese beheerstelsel en ander dele. Die basiese werkprinsiep is dat plasma die gas onder beheerde en kwalitatiewe toestande kan ioniseer in 'n vakuumtoestand. Die vakkuumpomp word gebruik om die werkruimte te ontlug tot 'n vakuum van 10–40 Pa, waarna die gas onder die invloed van 'n hoëfrekwensiegenerator geïoniseer word. Hierdie proses lei tot die vorming van plasma (die vierde toestand van materie), wat sy opvallende eienskap van hoë eenvormigheid van die vonkglansontlading het; verskillende gasse gee gekleurde sigbare lig af wat wissel van blou tot donkerpers, terwyl die materiaalverwerkingstemperatuur naby kamertemperatuur is. Hierdie hoogs reaktiewe deeltjies tree met die behandelde oppervlak in interaksie om verskeie oppervlakveranderinge te verkry, soos oppervlakhidrofiliteit, waterafstoting, lae wrywing, hoë skoonmaakvermoë, aktivering en etsing.
Voordele van plasma-behandeling: 1. Beskerming van die omgewing: Die plasma-reaksieproses is ’n gas-vastestof-fase koherente reaksie wat nie waterbronne verbruik nie, nie chemikalieë hoef by te voeg nie en nie die omgewing besoedel nie. 2. Veelvoudigheid: Ongeag die tipe substraat wat behandel moet word, kan dit behandel word, soos metale, halfgeleiers, okside en die meeste polimermateriale wat goed behandel kan word; 3. Lae temperatuur: naby normale temperatuur, veral geskik vir polimermateriale, langer bergtyd en hoër oppervlakspanning as korona- en vlammetodes. 4. Sterk funksionaliteit: Dit behels slegs die oppervlakkige laag van polimermateriaal (10–1000 Å), wat een of meer nuwe funksies kan verskaf sonder dat die materiaal se eie eienskappe verloor word; 5. Lae koste: Die toestel is eenvoudig, maklik om te bedien en te onderhou, en kan kontinu bedryf word. Gewoonlik kan ’n paar bottels gas duisende kilogram skoonmaakvloeistof vervang, sodat die skoonmaakkoste baie laer sal wees as nat skoonmaak. 6. Beheerbare proses gedurende die hele proses
EN
AR
BG
CS
DA
NL
FI
FR
DE
EL
IT
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
IW
ID
LT
SR
SL
UK
VI
ET
HU
TH
TR
FA
AF
MS
GA
IS
HY
AZ
KA



























